点追踪红外热像仪Xi 1M

点追踪红外热像仪结合了红外热像仪和红外测温仪的优点。它们测量每个像素的温度
–在 optris 的新型 Xi 1M 中，高动态 CMOS 传感器的分辨率为 396 x 300 像素–并以 20 Hz 的频率识别图像中的最高温度。新型点寻像红外热像仪采用紧凑坚固的外壳，因此可以轻松集成到各种应用中。通过手动电动调焦，可以使用随附的软件对图像进行快速调焦。
新闻稿连续测量范围高达1800°C
Xi 1M的光谱范围为0.85至1.1 μm，非常适合测量金属表面、熔体、石墨或陶瓷的温度。对于许多金属加工应用，450°C到1800°C的连续温度测量范围同样非常合适。与许多其他解决方案相比，新型点追踪红外热像仪无需切换测量范围。集成的点追踪功能可自动测量红外热像仪视野内的最高温度。这在冶金学中特别有利，例如当熔融金属部分被熔渣覆盖时。
通过外部处理接口，最多可将9个自由定义的测量场进一步处理为模拟输出（可选0/4-20 mA或0-10 V）或通过继电器输出警报，这在OEM领域中非常实用。
Xi 1M可配置为自主操作（无需PC）。快速以太网、USB 2.0 和 RS485 可用作数字接口。Xi 1M 还可选配 Modbus TCP 或 EtherNet/IP 等现代工业以太网接口。
Xi 1M配备不同的光学元件，实现7°至28°之间的孔径角，可在5°C至50°C的环境温度下工作。空气净化附件、快门或水冷外壳等选件有助于确保点追踪红外热像仪在恶劣的环境条件下照常使用。